氮化鋁(lǚ)陶瓷(cí)基板加(jiā)工技術(shù)的瓶頸:超精密加工技術的挑戰與突破
03-22-2024
  氮化鋁陶瓷基板加工技術的瓶頸(jǐng):超精密加工技術的(de)挑戰與突破

  隨著科技的(de)不斷進步,氮化鋁陶瓷基板(bǎn)作為一種高性能材(cái)料,在電(diàn)子、航空、航天等領域的應用日(rì)益廣泛(fàn)。然而(ér),氮化鋁陶瓷基板(bǎn)的加(jiā)工技術,尤其是超精密加工技術,一直是製約其進一步發展的瓶頸。本文將探討氮化鋁陶瓷基板超精密加工技術的挑戰,並展(zhǎn)望未來的突破方向。

氮化鋁陶瓷基板加工技術的(de)瓶頸

  一、氮化(huà)鋁陶瓷基板的特性與應用
  氮化鋁陶瓷具有高強度、高硬度(dù)、高熱穩定性以及良好的絕(jué)緣性能,是理想的電子(zǐ)封裝材料和高溫結(jié)構材料。在電子領域,氮化鋁陶瓷基板(bǎn)被廣泛(fàn)應(yīng)用於集成電(diàn)路、功率電子器(qì)件、傳(chuán)感器等高性能電子產品的製(zhì)造(zào)中。然而,由(yóu)於其硬度(dù)高、脆性(xìng)大,傳統的加工方法難(nán)以滿足其高精度、高表麵的加工要求。
  二、超精密加工技術的挑戰
  超精密加(jiā)工技術是實現氮化鋁陶瓷基板高精度、高質(zhì)量加(jiā)工的關鍵。然而,在實際(jì)應(yīng)用中,超精密加工技術麵臨著諸多挑戰:
  材料(liào)硬度高:氮化鋁陶瓷的硬(yìng)度接近金剛石,傳統的(de)機械(xiè)加工方法難(nán)以(yǐ)實現其高效(xiào)、高精度的加(jiā)工。
  脆性(xìng)大:氮化鋁陶瓷的脆性使其在加工過程中容易產(chǎn)生裂紋和崩邊,嚴重影響(xiǎng)加工質量和產(chǎn)品性能。
  加工(gōng)溫度高:在超精密加工過程(chéng)中,由於摩擦熱和切(qiē)削熱的作用,加工區域溫度會急劇升高,可能導致材料性能的變化和加工精度的(de)下降。
  表麵質量要求高:氮化鋁陶瓷基板的應用往往要求其具有極高的表麵質量和光潔度,這對加工技術(shù)提(tí)出了更(gèng)高的要求。
  三、超精密加工技術的突破方向
  為(wéi)了(le)克服氮化鋁陶瓷基板超精密(mì)加工技術的瓶(píng)頸,研究者們不斷探索新的加工方(fāng)法和(hé)工藝。以下是幾個(gè)潛在的突破方向:
  研發新型刀具材料:通過研發具(jù)有更高硬度(dù)、更好耐磨性和抗熱性的刀具材料(liào),降低加(jiā)工過(guò)程中的切(qiē)削力和(hé)切(qiē)削熱,提高加工(gōng)精度和效率。
  優化加工工藝參數:通過(guò)深入研(yán)究氮化(huà)鋁陶瓷(cí)的(de)加(jiā)工特性(xìng),優化加工工藝(yì)參數,如切削速度、進給量、切(qiē)削深度等(děng),以減(jiǎn)小加工過程(chéng)中的熱影響和力影響。
  引入新型加工技(jì)術:如激光加工、離子束加工等新型加工(gōng)技術,這些技術具有非接觸、高精度、低損傷等特點(diǎn),有望為氮化鋁陶瓷基板的超精密(mì)加工提供新的解(jiě)決方案。
  加強基礎研究:通過深入研究氮化鋁陶瓷的微(wēi)觀結構、力學性能和加工機理等基礎問(wèn)題(tí),為開發更高效的加工方法提供理論支持。
  四、結論與展(zhǎn)望
  氮化鋁陶瓷基板超精密加工技術的瓶頸是製約其應(yīng)用進一(yī)步擴大(dà)的關鍵因素。通過研發(fā)新型(xíng)刀具材料、優化加工工藝參數、引入新(xīn)型加工技術以及加強(qiáng)基礎(chǔ)研究等多方麵的努力,有(yǒu)望(wàng)在未來突破這(zhè)一瓶(píng)頸,推動氮化鋁陶瓷基板在更多領域的應用。隨著科技的不斷進步和創新,我們有理由相信,氮化鋁陶瓷基板的超精密加工技(jì)術將迎(yíng)來更加廣闊的(de)發展前景。
  五、氮化鋁陶(táo)瓷(cí)基板加工技術(shù)的瓶頸:超精密(mì)加工技術
  氮化鋁陶瓷具(jù)有導熱效率高、力(lì)學(xué)性能好、耐腐蝕、電性能優、可(kě)焊接等特點,是(shì)理想的大規模(mó)集成電路散熱基板和封裝材料。根據360 research reports數據預測,到2026年,全球AlN陶瓷(cí)基板市場(chǎng)規模預計將從2020年的6100萬美元達到1.073億美(měi)元,2021-2026年(nián)的複合年增長率為9.8%,應用市場前景廣闊。
  在電子封裝應(yīng)用(yòng)中,氮化鋁陶瓷基片的輕(qīng)量化和(hé)超光(guāng)滑表麵能(néng)夠減小體積,能降低內阻,有利於芯片的散熱。通常要(yào)求其表(biǎo)麵超光滑,表麵粗糙(cāo)度Ra≤8 nm,損傷深度(dù)達到納米級別;在集成電路芯片應用中,氮化鋁陶瓷基片經過拋光後的(de)表(biǎo)麵精度需(xū)要滿足RMS<2 nm。而氮化(huà)鋁陶瓷的高硬度、高脆性和低斷裂韌性,使之在加工過程(chéng)中容易產生(shēng)表麵缺陷和亞表麵損傷。如何獲得高質量的平坦化加工表麵,提高加工效率,減少加(jiā)工中出現的缺陷和損傷,一直都是超精密(mì)加工領域的(de)研究熱點。
  目前,為了獲得表麵質量較高的氮化鋁陶瓷基(jī)板,主要采(cǎi)用化學機械拋光、磁流變拋光、ELID磨削、激光加工、等離子輔助拋光以及複合(hé)拋光等超精密(mì)加工方法(fǎ)。
  01
  氮化鋁陶瓷化學(xué)機械拋(pāo)光工(gōng)藝

  化學機械拋光(CMP)作為目前半導體行業使用最廣泛的全局(jú)平坦化技術。其工藝裝置主要由旋轉拋光盤、試件裝(zhuāng)夾(jiá)器及拋光液輸送裝置三部分構成。拋光盤上粘貼有拋光墊並自旋轉,外部通過承(chéng)載器給晶片施加正壓力(lì),使得晶片與拋(pāo)光墊兩(liǎng)者之間有合適的正壓(yā)力,能夠產生相(xiàng)對運動。目前,氮化鋁(lǚ)陶瓷的CMP研究已經取得了一係列的進(jìn)展。

  化學(xué)機械拋光工作
  在化學機械拋光中,材料的去除是(shì)通過化學和機械綜合(hé)作用,加工後的氮化鋁表麵容易出現微裂(liè)紋,產生亞表麵損傷。此外,在拋光工藝中,研磨液易造成汙(wū)染,需要專門工(gōng)藝處理,並且磨料容易對拋光墊造成磨損,需要定期對拋光墊修正。目前,用於氮化鋁的磨料、拋(pāo)光(guāng)墊種類、拋光工藝(yì)不(bú)如碳化矽成熟(shú),有(yǒu)待進一步深入研究。
  02
  氮化鋁陶瓷磁流變拋光(guāng)工藝(yì)
  磁流變拋光技術是介於接觸(chù)式拋光與非接(jiē)觸式拋光的(de)一種拋(pāo)光方法。與傳統的拋光方法(fǎ)相比,具有拋光精度高、無刀具磨損、堵塞現(xiàn)象,去(qù)除率(lǜ)高且不引入亞表麵損傷等優點。
  磁流(liú)變拋光工作
  03
  氮化鋁陶瓷的ELID磨削工藝
  ELID磨削(xuē)技術是將傳統磨削、研磨、拋光(guāng)結合為一體的複合鏡麵加工技術,具有高效性、工藝簡單、磨削質量高(gāo)等特(tè)點,並且使(shǐ)用(yòng)的磨削液為弱電解質(zhì)的水溶液,對機床和工件(jiàn)沒有腐蝕作(zuò)用,裝置簡單,適合推廣。但在磨削過程中由於修正電流的(de)變(biàn)化容易導(dǎo)致氧化層不連續,工件表麵容易不平整,磨削工件容易產生燒傷、殘餘應(yīng)力、裂紋等缺(quē)陷。
  ELID磨削(xuē)原理
  04
  氮化鋁(lǚ)陶瓷激光加工
  激光加工是一種(zhǒng)無接觸加工(gōng)、無刀具磨損(sǔn)、高精度以及(jí)靈活性強(qiáng)的先進(jìn)加(jiā)工技術,是適合脆硬型陶瓷材料的一種加(jiā)工方法。其工作原理是光能通過透鏡聚焦(jiāo)後達到極高的能量(liàng)密(mì)度,使材料在高溫下分解。激光加工方法成本(běn)低、效率(lǜ)高(gāo),但是難以控製產品(pǐn)的精(jīng)度和表麵(miàn)質量。
  激光加(jiā)工原理
  05
  氮化鋁陶瓷等離子輔助拋光工藝
  等離子輔助拋光(PAP)是(shì)一種幹式拋光技(jì)術。由於(yú)其結合了等離子體輻照對表麵進行改性,可通過超低壓或者使用軟磨料去除改性層,因而常被用於加(jiā)工難處理材料。目前,等離子體輔助拋光由於受磨石的影響,材料的去除率相對於其他加工工藝較低,並且PAP的加工設備昂貴,不適用於(yú)大規(guī)模加工。
  等離子輔助拋光
  06
  氮化鋁陶瓷(cí)複合拋光工藝
  對於典型的硬脆性材料,非接觸式(shì)的加工方法,如化學腐蝕(shí)和激光拋光等,往往存在環境汙染、加工成本高、加工效率低(dī)等問題。與之相(xiàng)比,接觸式的磨粒(lì)加工(gōng)方法包(bāo)括金剛石磨削和遊離磨粒(lì)拋光,雖然(rán)加工效率高,工件形狀精(jīng)度好,但(dàn)會引入嚴重的表麵和亞表麵損傷,隻適合(hé)粗加工,必須搭配刻蝕或拋光工序來實現損傷層的去除和應力釋放。
  從上述分析(xī)可以看出,單一的加工方法無法同時具有各種優勢。為提高氮化鋁陶(táo)瓷基板加工表麵質量和加工效(xiào)率,國內外學者也采用多種(zhǒng)加工手段進行複(fù)合拋光技術研究,常見的複合拋光工藝有超聲振動輔(fǔ)助磨削、超聲波(bō)磨料水射流拋光(guāng)以及超聲輔助固結(jié)磨粒化學機械拋光(guāng)等。
  總(zǒng)結
  作為(wéi)電子(zǐ)封裝基板的理想材料,氮化鋁陶瓷超精密加工後的高質(zhì)量加工表(biǎo)麵是(shì)保證電(diàn)子功率器件持久穩定使用的前提。就現階(jiē)段而(ér)言,化學機械(xiè)拋光仍(réng)是氮化鋁陶瓷(cí)最主要的平坦化超精密加工方法(fǎ),並(bìng)以其他超精密加工方法為輔。氮化鋁陶瓷是(shì)一種多晶材料,有大量(liàng)AlN晶粒液相燒結而成(chéng),是(shì)典型的脆(cuì)硬型材料,加(jiā)工難(nán)度不小,現階(jiē)段精密加工技術仍存在一些問題待(dài)解決:
  (1)化學機械拋光中的研磨液(yè)、磨料、拋光墊種類較(jiào)少,加工效率偏低。研發新型研磨液、磨料、拋光(guāng)墊材(cái)料(liào)利於提高加工效率,降低(dī)成本。
  (2)AlN陶瓷材料去除過程中(zhōng)的演變機理已經取得一些進展,但目(mù)前超精密加(jiā)工氮化鋁陶瓷的表麵損傷形成機理(lǐ)尚不夠明確,氮化(huà)鋁陶瓷實(shí)現延性加工臨界條件尚不明確,在表麵質量和(hé)加工效率約束下,加工(gōng)工藝參數選擇尚未明確,需進(jìn)行深入的研究,為實現氮化鋁陶瓷高(gāo)效低損傷精密加工提供技術支(zhī)撐。
  (3)現有CMP、ELID、PAP、MRF等加(jiā)工工藝都不具有批量生產的優越性,氮化鋁(lǚ)陶瓷加工成本一直居高不下。
www.91-91视频网站-91.n-91视频网址