電鍍處理過程中所用的設備主要有各類固定槽、滾鍍槽（cáo）、掛具、吊（diào）籃等。鍍（dù）後處理是對零件進行拋光、出光、鈍化、著（zhe）色、幹燥、封閉（bì）、去氫等工（gōng）作，龍門（mén）式掛鍍生產線，根據需要選用其中一種或數種工（gōng）序使（shǐ）零件符合質量要求。鍍後處理常用設（shè）備主要有磨、拋光機，各類固定槽。全自動環形垂（chuí）直升降電鍍流（liú）水（shuǐ）線（xiàn）
工藝要求
1. 鍍層與基體金屬，鍍（dù）層與鍍層（céng）之（zhī）間，應有良好的結合力。
2. 鍍（dù）層應（yīng）結晶細致，掛鍍生產（chǎn）線研發，平整（zhěng），厚度均勻。
3. 鍍層應具有規定的（de）厚度和盡可能少的孔隙。
4. 鍍層應具（jù）有規定的各項指標，如光亮度，硬度，導（dǎo）電性等（děng）。
5. 環境溫度為-10℃～60℃;
6. 輸入電壓為220V±22V或380V±38V;
7. 水處理設備最.大工作噪聲應（yīng）不大於80dB(A)。
8. 相對濕度(RH)應不大於95%;
9. 原水COD含量為100mg/L～150000mg/L。
10. 電（diàn）鍍時間及電鍍過程的溫度，決定鍍層厚度的大小。
電鍍的概（gài）念（niàn）
就是利用（yòng）電解原理在某些金屬（shǔ）表麵上鍍上一薄（báo）層其它金屬或合金（jīn）的（de）過程。電鍍時，鍍層金屬做陽極，被氧化成陽離子進入電鍍液；待鍍的金屬製品做陰極，鍍層金屬的陽離子在金（jīn）屬表麵被還原形成鍍層（céng）。為排除其它陽離子的幹擾，且使鍍層均（jun1）勻、牢固（gù），掛鍍生產（chǎn）線公司，需（xū）用含鍍層金屬陽離子的溶液做電鍍液，以保持鍍層金屬陽離子的濃度不變。電鍍（dù）的目的是在基材上鍍上金屬鍍層，改變基材表麵（miàn）性質或尺寸.電鍍能（néng）增強金屬的抗腐蝕性(鍍（dù）層金屬多采用耐（nài）腐蝕的金屬)、增加硬度、防（fáng）止磨耗、提高導電性、潤滑性、耐熱（rè）性、和表麵美觀。
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